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    ITO导电玻璃镀膜前的清洗

    ITO薄膜在基片上的附着强度不仅取决于薄膜与基片两种 材料本身的理化性能,还与基片表面的清洁和活化程度有 关。经过清洗处理的玻璃基片在进入真空室进行镀膜之 ,仍有可能受到环境中的尘埃和气体分子的污染。为了 获得实时洁净的表面,最好的办法是进行在线等离子清 洗。

    长期生产使用表明,经过该清洗装置在线清洗后 所镀的SiO2膜与ITO膜,薄膜的针孔率降低了二个数量 级,薄膜与玻璃基片的附着力提高了5倍以上。

    用人工方法产生的等离子体大致可分为高温等离子体 与低温等离子体。高温等离子体技术主要用于受控热核聚 变反应的研究。所谓低温等离子体是指在这种等离子体中 离子与中性粒子的温度远远低于电子的温度而接近于或略 高于环境温度。低温等离子体可以在较低的温度下获得高 活性的物质,因此特别适合于在各种材料科学和微电子工 业中应用于在低温下的化学反应。可以毫不夸张地说,如 果没有低温等离子体就没有现代的超大规模集成电路工艺 (如:等离子体干法刻蚀,氧等离子体去光刻胶,等离子体化 学气相沉积制备二氧化硅、氮化硅、非晶硅薄膜,等等)。等ITO导电玻璃的清洗

    ITO薄膜在基片上的附着强度不仅取决于薄膜与基片两种 材料本身的理化性能,还与基片表面的清洁和活化程度有 关。经过清洗处理的玻璃基片在进入真空室进行镀膜之 ,仍有可能受到环境中的尘埃和气体分子的污染。为了 获得实时洁净的表面,最好的办法是进行在线等离子清 洗。

    长期生产使用表明,经过该清洗装置在线清洗后 所镀的SiO2膜与ITO膜,薄膜的针孔率降低了二个数量 级,薄膜与玻璃基片的附着力提高了5倍以上。

    用人工方法产生的等离子体大致可分为高温等离子体 与低温等离子体。高温等离子体技术主要用于受控热核聚 变反应的研究。所谓低温等离子体是指在这种等离子体中 离子与中性粒子的温度远远低于电子的温度而接近于或略 高于环境温度。低温等离子体可以在较低的温度下获得高 活性的物质,因此特别适合于在各种材料科学和微电子工 业中应用于在低温下的化学反应。可以毫不夸张地说,如 果没有低温等离子体就没有现代的超大规模集成电路工艺 (如:等离子体干法刻蚀,氧等离子体去光刻胶,等离子体化 学气相沉积制备二氧化硅、氮化硅、非晶硅薄膜,等等)。等

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